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ORTEC 在 alpha 谱仪上采用超低本底和 PIPS 工艺(表面钝化、离子注入、可擦洗)硅探测器,同时真空舱室也为(超)低本底材料。面积上提供 300、450、490、600、900 和 1200mm2 的选择(对-MEGA 探测器直径可选至最大 3000mm2),有效耗尽层 100μ m。
关于Ultra-AS 探测器的详细信息,请参考本手册 35、36 页。
MEGA/DUO/Ensemble:
Alpha-DUO 是一个完整的双路 alpha 谱仪,用于传统制样方法下 alpha 样品的分析;Alpha-MEGA 是一个完整的单路 alpha 谱仪,其形制大小等同于 Alpha-DUO,由于扩大了测量舱室并可采用最大3000mm2 的探测器,它的设计是用于直接测量最大 106mm 直径的滤纸滤膜样品。
Ensemble 是一个标准设计、可最多容纳四个或-DUO、或-MEGA、或其组合体的机箱。
-DUO 和-MEGA 既可以独立工作,也可以嵌入 Ensemble 主机中形成多路的 alpha 谱仪。
结构特性与性能指标:
探测器的面积可选 300 /450/490/600/900/1200 mm2;样品直径可从 13mm 至 51mm。探测器与被测样品之间有 10 档距离可选,相邻两档之间的距离差为 4mm, 最大距离可达 44mm。
wan全数字化且每路wan全独立的 MCA,一切参数由计算机控制。(Alpha Aria 由外面板控制真空) 真空计:范围 10mTorr 到 20Torr。
探测器偏压:范围 0±100V, 大小和正负极性可调节。漏电流检测器:范围 0 到 10,000nA,显示分辨率 3nA。
脉冲产生器;范围 0 到 10Mev,稳定性<50ppm/ºC ,脉冲的幅度可调。
数字化 MCA:通过软件可设置系统转换增益(道数)为 256、512、1024、 2048 或者 4096 道,细调增益为 0.25 到 1;增益稳定性: ≤150ppm/ºC;每个事件的转换时间(死时间):<2 µs 。
数字化稳谱、ADC 的零点(ZERO)和下阈(LLD)均由计算机调节设置。谱仪的探测器偏压、漏电流均可在软件相关界面上以数字和图形显示出来。
输入电源:120/240 V ac, 50/60 Hz 输入功率 50W。
通讯:USB2.0 接口。每一个 Alpha Ensemble 最终提供一条电缆给PC。应用软件:MAESTRO-32 或 AlphaVision
Ensemble-8 尺寸:48.5cm W× 49.2cm D × 27.2cm H;净重:26.6 kg; 工作条件: 温度 0ºC 到 50ºC, 相对湿度 ≤ 95%。
分辨率与本底:基于使用 450mm2 ULTRA-AS 探测器和高质量的 241Am 点源,能量分辨率(FWHM):≤20KeV (探测器到源的距离等于探测器的直径),探测器效率: ≥25% (探测器到源的距离小于 10mm),本底:在 3MeV 以上, 每小时计数≤1。
另几款探测器的分辨率(@5.486MeV):
ENUS-490,FWHM): ≤ 22KeV; ENUS-600,FWHM): ≤ 24KeV; ENUS-900,FWHM): ≤ 29KeV; ENUS-1200,FWHM): ≤ 37KeV
Ensemble/DUO/MEGA 都已植入反冲抑制功能,只需配置反冲抑制 盘 RCAP-ST 即可实现该功能,从而尽可能避免探测器与舱室被 alpha 粒子沾污。
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